第二十四章电子能谱分析法
第二十四章 电子能谱分析法
什么是电子能谱分析法？ 口 电子能谱分析法是采用单色光源（如X射线、紫外光）或电子束去照 射样品，使样品中电子受到激发而发射出来，然后测量这些电子的产 额（强度）对其能量的分布，从中获得有关信息的一类分析方法。 口本章主要介绍 俄歇电子能谱法(AES) X射线光电子能谱法XPS) 紫外光电子能谱法(UPS)
什么是电子能谱分析法？ 电子能谱分析法是采用单色光源（如X射线、紫外光）或电子束去照 射样品，使样品中电子受到激发而发射出来，然后测量这些电子的产 额（强度）对其能量的分布，从中获得有关信息的一类分析方法。 本章主要介绍 俄歇电子能谱法(AES) X射线光电子能谱法(XPS) 紫外光电子能谱法(UPS)
第一节俄歇电子能谱法 俄歇电子能谱法是用具有一定能量的电子束（或X射线）激发样品俄歇 效应，通过检测俄歇电子的能量和强度，从而获得有关材料表面化学 成分和结构的信息的方法
第一节 俄歇电子能谱法 俄歇电子能谱法是用具有一定能量的电子束(或X射线)激发样品俄歇 效应，通过检测俄歇电子的能量和强度，从而获得有关材料表面化学 成分和结构的信息的方法
一、基本原理 口光谱分析中已描述了原子中的电子跃迁及其俄歇电子的发射过程。 口俄歇电子的激发方式虽然有多种（如X射线、电子束等），但通常主 要采用一次电子激发。 口 因为电子便于产生高束流，容易聚焦和偏转。俄歇电子的能量和入射 电子的能量无关，只依赖于原子的能级结构和俄歇电子发射前它所处 的能级位置
一、基本原理 光谱分析中已描述了原子中的电子跃迁及其俄歇电子的发射过程。 俄歇电子的激发方式虽然有多种（如X射线、电子束等），但通常主 要采用一次电子激发。 因为电子便于产生高束流，容易聚焦和偏转。俄歇电子的能量和入射 电子的能量无关，只依赖于原子的能级结构和俄歇电子发射前它所处 的能级位置
1. 俄歇电子产额 ▣俄歇电子产额或俄歇跃迁几率 1.0 0.9 俄歌电子产额 决定俄歇谱峰强度，直接关系 0.8 0.7 到元素的定量分析。俄歇电子 与特征X射线是两个互相关联和 03 竞争的发射过程。对同一K层空 带0.2 特征X射钱产颗 穴，退激发过程中荧光X射线与 俄歇电子的相对发射几率，即 图13-1俄歇电子产额与原子序数的关系 荧光产额(Ok)和俄歇电子产额 由图可知，对于K层空穴Z<19,发射俄歇 (ak)满足 电子的几率在90%以上；随Z的增加，X射 K =1-@K (13-1) 线荧光产额增加，而俄歇电子产额下降。 Z<33时，俄歇发射占优势
1．俄歇电子产额 俄歇电子产额或俄歇跃迁几率 决定俄歇谱峰强度，直接关系 到元素的定量分析。俄歇电子 与特征X射线是两个互相关联和 竞争的发射过程。对同一K层空 穴，退激发过程中荧光X射线与 俄歇电子的相对发射几率，即 荧光产额(K)和俄歇电子产额 ( )满足 =1－K (13-1) K K 图13-1 俄歇电子产额与原子序数的关系 由图可知，对于K层空穴Z<19，发射俄歇 电子的几率在90％以上；随Z的增加，X射 线荧光产额增加，而俄歇电子产额下降。 Z<33时，俄歇发射占优势