A 作业习题汇总 1.回答下列问题, (1)画出O2作立方密堆时,一个晶胞中的八面体空隙和四面体空隙所在位置 (2)一个晶胞中有多少氧原子?多少个八面体和四面体空隙? (3)请确定在下列情况下需要填入阳离子的价态以及氧离子的配位数, ()所有的四面体空隙被境满: (b)所有的八面体空隙被填满: (c)一半的四面体空隙被填满 (d)一半的八面体空隙被填满。 【答案】(1)八面体空隙和四面体空隙如下图所示 图A1八而体空隙和四面体空隙 (2)一个晶胞中有4个氧原子,4个八面体空隙和8个四面体空隙. (3)假设M为阳离子: (a)四面体空隙数为氧原子数的两倍,所以化学式可写为M2O.M的静电键强度 为1/4,氧原子的配位数为2/(1/4)=8; 113
A 作业习题汇总 1.回答下列问题. (1)画出 O2− 作立方密堆时,一个晶胞中的八面体空隙和四面体空隙所在位置. (2)一个晶胞中有多少氧原子?多少个八面体和四面体空隙? (3)请确定在下列情况下需要填入阳离子的价态以及氧离子的配位数. (a)所有的四面体空隙被填满; (b)所有的八面体空隙被填满; (c)一半的四面体空隙被填满; (d)一半的八面体空隙被填满. 【答案】(1)八面体空隙和四面体空隙如下图所示. 图 A.1 八面体空隙和四面体空隙 (2)一个晶胞中有 4 个氧原子,4 个八面体空隙和 8 个四面体空隙. (3)假设 M 为阳离子: (a)四面体空隙数为氧原子数的两倍,所以化学式可写为 M2O.M 的静电键强度 为 1/4,氧原子的配位数为 2/(1/4)=8; 113
-114 A作业习题汇总 (b)八面体空隙数与氧原子数相等,所以化学式可写为MO.M的静电键强度为 2/6=1/3,氧原子的配位数为2/(1/3)=6: (c)一半的四面体空隙被填满,化学式可写为M0,1M的静电键强度为2/4=1/2, 氧原子的配位数为2/1/2)=4: ()一半的八面体空隙被填满,化学式可写为MO2,M的静电键强度为4/6-2/3, 氧原子的配位数为2/(2/3)=3。 【注】(1)空隙位置如果用坐标表示只需要写一个最简单的即可,如(001/2)可以 表示(001/2)、(01/20)、(1/200),且在坐标中0和1是一样的;此外不要忘记(1/2 1/21/2)也是一个八面体空隙. (3)先得到价态,后根据静电键强度计算出配位数而不是由配位数的到价态,逻辑 需要注意一下 2.已知下面的NaCl结构的晶体的点阵常数:Mg0一4.21A;MnO一4.44A;CaO -4.80A;Mgs-5.19A;MnS-5.21A;CaS-5.68A,请计算NaC1结构中Ca2+和02- 的Goldschmidt半径. 【答案】首先,按照阴离子密堆,阳离子填隙的规律,根据MgS和MS的点阵常 数几乎相等,推测结构未被撑开,因此得到$2-的半径为 )=x×519+521=184 再根据CaS的点阵常数,推测结构被撑开,因此可以得到Ca2+的半径为 RCa2+)=2×5.68-1.84=1.00A 由于S2-的半径比O2-的半径大,因此CO的结构也被撑开,因此可以得到O2-的 半径为 R02-)=7×4.80-1.00=1.40A 3.BTO3具有钙钛矿结构,室温下是一种铁电材料,具有四方结构.与高温立方 相的钙钛矿结构比,室温下BTO3的阴阳离子产生一定位移(如下图所示,为一个晶 胞沿a轴或者b轴的投影),从而产生自发极化.请计算BaTiO3自发极化强度的大小, 已知晶胞参数c=4.036A,a=b=3.992A. 【提示】根据大学物理的知识,极化强度的大小定义为单位体积内偶极矩的和,即 自发极化强度=单胞偶极矩/单胞体积. 【答案】单胞的偶极矩为 u=∑ql =8×发x0061+4e×012+2×-2×(←0.036 2 =0.674eA =1.078×10-29Cm
− 114 − A 作业习题汇总 (b)八面体空隙数与氧原子数相等,所以化学式可写为 MO.M 的静电键强度为 2/6=1/3,氧原子的配位数为 2/(1/3)=6; (c)一半的四面体空隙被填满,化学式可写为 MO,M 的静电键强度为 2/4=1/2, 氧原子的配位数为 2/(1/2)=4; (d)一半的八面体空隙被填满,化学式可写为 MO2,M 的静电键强度为 4/6=2/3, 氧原子的配位数为 2/(2/3)=3. 【注】(1)空隙位置如果用坐标表示只需要写一个最简单的即可,如 (0 0 1/2) 可以 表示 (0 0 1/2)、(0 1/2 0)、(1/2 0 0),且在坐标中 0 和 1 是一样的;此外不要忘记 (1/2 1/2 1/2) 也是一个八面体空隙. (3)先得到价态,后根据静电键强度计算出配位数而不是由配位数的到价态,逻辑 需要注意一下. 2. 已知下面的 NaCl 结构的晶体的点阵常数:MgO—4.21Å;MnO—4.44Å;CaO —4.80Å;MgS—5.19 Å;MnS—5.21Å;CaS—5.68Å, 请计算 NaCl 结构中 Ca2+ 和 O2− 的 Goldschmidt 半径. 【答案】首先,按照阴离子密堆,阳离子填隙的规律,根据 MgS 和 MnS 的点阵常 数几乎相等,推测结构未被撑开,因此得到 S2− 的半径为 R(ak−) = √2 4 × 5.19 + 5.21 2 = 1.84³. 再根据 CaS 的点阵常数,推测结构被撑开,因此可以得到 Ca2+ 的半径为 R(*k+) = 1 2 × 5.68 − 1.84 = 1.00³. 由于 S2− 的半径比 O2− 的半径大,因此 CaO 的结构也被撑开,因此可以得到 O2− 的 半径为 R(Pk−) = 1 2 × 4.80 − 1.00 = 1.40³. 3. BaTiO3 具有钙钛矿结构,室温下是一种铁电材料,具有四方结构.与高温立方 相的钙钛矿结构比,室温下 BaTiO3 的阴阳离子产生一定位移(如下图所示,为一个晶 胞沿 a 轴或者 b 轴的投影),从而产生自发极化.请计算 BaTiO3 自发极化强度的大小, 已知晶胞参数 c = 4.036Å,a = b = 3.992Å. 【提示】根据大学物理的知识,极化强度的大小定义为单位体积内偶极矩的和,即 自发极化强度 = 单胞偶极矩/单胞体积. 【答案】单胞的偶极矩为 µ = !ql = 8 × 2e 8 × 0.061 + 4e × 0.12 + 2 × −2e 2 × (−0.036) = 0.674e³ = 1.078 × 10−29*K
-115- 0061A↓ 图A.2第3题图 单胞的体积为 V=a2c=3.9922×4.036=64.32A3=6.432×1029m3 因此自发极化强度为 P,=台=0.1676C/m2 【注】偶极矩是正、负电荷中心间的距离和电荷中心所带电量的乘积,在本题中,如 果所有原子都在其平衡位置,整个晶体的偶极矩为0,是由于原子发生了偏移,整个晶 体具有了不为0的偶极矩,因此根据每个原子的电荷数和偏移量即可计算出偶极矩.需 要注意的是,需要考虑原子在晶胞中的贡献,同时需要规定一个偏移的正方向,此外对 于带负电的0原子还需要额外再加一个负号. 4.用硬球密堆来描述岩盐、闪锌矿和反萤石结构的结构特征,它们的结构的异同 点是什么?对于纤锌矿结构和NiAs结构,它们的异同点又是什么? 【答案】(1)同:阴离子fcc密堆或近似立方密堆,其他离子填隙 异:NaC1的八面体空隙全被占据,四面体空隙全空;闪锌矿的一半的四面体空隙 被占据,八面体空隙全空;反萤石的所有的四面体空隙被占据,八面体空隙全空 (2)同:都是阴离子hcp密堆. 异:阳离子的位置不同.纤锌矿结构占据一半的四面体间隙,其余一半四面体间隙 和全部八面体间隙空;NAs结构占据全部八面体空隙,而四面体间隙全空, 5.在讨论Bravais格子时,这些格子可看作由原始格子以及原始格子加面心或体 心组合而成,但一些由上述方法简单组合而成的格子不存在。主要原因是一些格子不符 合对称性要求或者可简化为另外一种格子.回答下面三个问题: (1)为什么没有立方底心格子? (2)为什么没有四方面心格子? (3)为什么没有四方底心格子? 【答案】(1)立方晶系具有三次轴(沿着格子或晶胞的体对角线),而立方底心格子 不具有三次轴,因此不符合对称性要求,故不存在
− 115 − O2- Ti4+ Ba2+ 0.061Å 0.036Å 0.12Å a c 图 A.2 第 3 题图 单胞的体积为 V = a2 c = 3.9922 × 4.036 = 64.32³3 = 6.432 × 10−29K3 . 因此自发极化强度为 Ps = µ V = 0.1676*/K 2 . 【注】偶极矩是正、负电荷中心间的距离和电荷中心所带电量的乘积,在本题中,如 果所有原子都在其平衡位置,整个晶体的偶极矩为 0,是由于原子发生了偏移,整个晶 体具有了不为 0 的偶极矩,因此根据每个原子的电荷数和偏移量即可计算出偶极矩.需 要注意的是,需要考虑原子在晶胞中的贡献,同时需要规定一个偏移的正方向,此外对 于带负电的 O 原子还需要额外再加一个负号. 4. 用硬球密堆来描述岩盐、闪锌矿和反萤石结构的结构特征,它们的结构的异同 点是什么?对于纤锌矿结构和 NiAs 结构,它们的异同点又是什么? 【答案】(1)同:阴离子 fcc 密堆或近似立方密堆,其他离子填隙. 异:NaCl 的八面体空隙全被占据,四面体空隙全空;闪锌矿的一半的四面体空隙 被占据,八面体空隙全空;反萤石的所有的四面体空隙被占据,八面体空隙全空. (2)同:都是阴离子 hcp 密堆. 异:阳离子的位置不同.纤锌矿结构占据一半的四面体间隙,其余一半四面体间隙 和全部八面体间隙空;NiAs 结构占据全部八面体空隙,而四面体间隙全空. 5. 在讨论 Bravais 格子时,这些格子可看作由原始格子以及原始格子加面心或体 心组合而成,但一些由上述方法简单组合而成的格子不存在.主要原因是一些格子不符 合对称性要求或者可简化为另外一种格子.回答下面三个问题: (1)为什么没有立方底心格子? (2)为什么没有四方面心格子? (3)为什么没有四方底心格子? 【答案】(1)立方晶系具有三次轴(沿着格子或晶胞的体对角线),而立方底心格子 不具有三次轴,因此不符合对称性要求,故不存在.
-116 A作业习题汇总 (②)对于四方面心格子,可以画出一个体积为面心格子一半的四方体心格子 (3)对于四方底心格子,可以画出一个体积为底心格子一半的四方原始格子 2- 图A.3四方底心格子是四方原始格子 【注】立方底心格子不存在的最本质原因是对称性不符合,而非最简;而四方底心 格子中有四次轴,因此是符合对称性要求的,但是可以化成更简单的格子所以不存在。 6.临界半径比的定义是:紧密堆积的阴离子恰好互相接触,并与中心的阳离子也 恰好接触的条件下,阳离子半径与阴离子半径之比.即每种配位体的阳、阴离子半径比 的下限.计算下列配位的临界半径比: (1)立方体配位; (2)八面体配位: (3)四面体配位: (4)三角形配位, 【答案】(1)立方体配位.在立方体的对角线上正负离子互相接触,在立方体的棱 上两个负离子相互接触,则 2(r++r-)=V5×2r-, 因此r+/r-=V3-1=0.732. (2)八面体配位.八面体中心对称的一对阴离子中心连线上正负离子相互接触,棱 上两个负离子相互接触,则 V2×2r-=2(r++r-), 因此r+/r-=√2-1=0.414. (3)四面体配位.四面体中的正离子直接与四个负离子相接触,四个负离子相互接 触,中心角为109.5°,因此底面上对角中心线长为2r-/W3,则 V(r++r-2-(2r-/W32=V(2r-)2-(2r-/W32-(r++r-), 因此r+/r-=0.225. (4)三角形配位.在同一平面内中心正离子与三个负离子直接接触,三个负离子相 互接触,则 ②P=2+[+)+V,+rP-月
− 116 − A 作业习题汇总 (2) 对于四方面心格子,可以画出一个体积为面心格子一半的四方体心格子. (3) 对于四方底心格子,可以画出一个体积为底心格子一半的四方原始格子. 图 A.3 四方底心格子是四方原始格子 【注】立方底心格子不存在的最本质原因是对称性不符合,而非最简;而四方底心 格子中有四次轴,因此是符合对称性要求的,但是可以化成更简单的格子所以不存在. 6. 临界半径比的定义是:紧密堆积的阴离子恰好互相接触,并与中心的阳离子也 恰好接触的条件下,阳离子半径与阴离子半径之比.即每种配位体的阳、阴离子半径比 的下限.计算下列配位的临界半径比: (1)立方体配位; (2)八面体配位; (3)四面体配位; (4)三角形配位. 【答案】(1)立方体配位.在立方体的对角线上正负离子互相接触,在立方体的棱 上两个负离子相互接触,则 2(r+ + r−) = √ 3 × 2r−, 因此 r+/r− = √3 − 1=0.732. (2)八面体配位.八面体中心对称的一对阴离子中心连线上正负离子相互接触,棱 上两个负离子相互接触,则 √ 2 × 2r− = 2(r+ + r−), 因此 r+/r− = √2 − 1=0.414. (3)四面体配位.四面体中的正离子直接与四个负离子相接触,四个负离子相互接 触,中心角为 109.5◦,因此底面上对角中心线长为 2r−/ √3,则 " (r+ + r−)2 − (2r−/ √ 3)2 = " (2r−)2 − (2r−/ √ 3)2 − (r+ + r−), 因此 r+/r− = 0.225. (4)三角形配位.在同一平面内中心正离子与三个负离子直接接触,三个负离子相 互接触,则 (2r−) 2 = r2 − + # (r+ + r−) + " (r+ + r−)2 − r2 − $2
-117- 因此4-=3-1=0155 2/3 【注】临界半径比通常是一个介于0到1之间的数字,因此如果计算出大于1的数 检查一下是否比反了 7.对于M2O5氧化物,写出下面缺陷的表达式:金属空位、金属间隙、氧空位、氧 间隙、氧空位、M取代一价的ML,M取代六价的Mh,电子和空穴缺陷. 【答案】w"、M、O、V6、Ma,M.e、, 8.请描述写缺陷方程式的三个原则,并详细描述下面的缺陷方程是否符合这些原 则,怎样符合或者不符合这些原则? (1)Mh2O3+3M=2Mh+3M+3O: (2)MX(M为1价)形成富金属化合物的缺陷方程写成M贷=M+e 【答案】缺陷方程的三个原则:物质守恒原则、电中性原则、格位比例不变原则; (1)符合原则 (2)不符合格位比例不变原则. 9.以M2O为例,写出氧气氛下形成缺氧、富金属、缺金属以及富氧的非化学计 量氧化物的缺陷方程,并写出相应的化学式. 【答案】缺氧氧化物M,0,-:08=6+2+号02gas): 富金属氧化物M+,0s:2M货+506=2M+02(gs)+10C; 缺金属氧化物:号02(gas)=2V"+50ǒ+10h: 富氧氧化物:02(gas)=0+2h. 1O.写出在氯气或钠气氛下,NaCl形成Na或C空位的缺陷方程 【答案】C气氛下形成Na空位:Cl(gas)=V%a+C8+h: C2气氛下形成C1空位:Cl各=Va+C2(gas)+e Na气氛下形成Na空位:Na。=a+Na(gas)+h'; Na气氛下形成Ci空位:Na(gas)-Va+Naa+d, 11.请分别写出在氧气氛下Mh2O和M20掺杂1MOg+z氧化物的缺陷方程。 【答案】高价掺杂:Mh205=2Mh5+20+30或Mhz05+4h:-2Mh+30+ Oz(gas) 低价掺杂:M20+02(gas)=2M1%+30ǒ+4h或M20+20=2M%+30ǒ 12.在存在多种阳离子的复合氧化物中,掺杂的阳离子进入哪个格位不是直接明了 的,需要根据一些因素进行判断,比如价态,离子半径等.请写出La(阳离子为正三 价,进人Ba的格位)摻杂具有钙钛矿结构的BTO3的缺陷方程,掺杂产生的点缺陷 通过电子缺陷补偿 【答案】La,0+2Ti02=2L+2T路+606+2+号02(gs. 13.请写出Sc203掺杂CaTiO3的缺陷方程,Sc原子进入Ti的格位,掺杂缺陷通 过氧空位进行电荷补偿
− 117 − 因此 r+/r− = ( √3 − 1)2 2 √3 = 0.155. 【注】临界半径比通常是一个介于 0 到 1 之间的数字,因此如果计算出大于 1 的数 检查一下是否比反了. 7. 对于 M2O5 氧化物,写出下面缺陷的表达式:金属空位、金属间隙、氧空位、氧 间隙、氧空位、M 取代一价的 Ml,M 取代六价的 Mh,电子和空穴缺陷. 【答案】V ##### J 、M••••• i 、O## i 、V •• P、M•••• JH、M# J?、e# 、h• . 8. 请描述写缺陷方程式的三个原则,并详细描述下面的缺陷方程是否符合这些原 则,怎样符合或者不符合这些原则? (1)Mh2O3 + 3M••• i = 2Mh••• i + 3M× J + 3O× P; (2)MX(M 为 1 价)形成富金属化合物的缺陷方程写成 M× J = J• i + e# . 【答案】缺陷方程的三个原则:物质守恒原则、电中性原则、格位比例不变原则; (1)符合原则; (2)不符合格位比例不变原则. 9. 以 M2O5 为例,写出氧气氛下形成缺氧、富金属、缺金属以及富氧的非化学计 量氧化物的缺陷方程,并写出相应的化学式. 【答案】缺氧氧化物 JkP5−x:P× P = V •• P + 2e# + 1 2 P2(;b); 富金属氧化物 J2+xO5:2J× J + 5P× P = 2J••••• i + 5 2 P2(;b) + 10e# ; 缺金属氧化物:5 2 P2(;b)=2V ##### J + 5P× P + 10h• ; 富氧氧化物:1 2 P2(;b) = P## i + 2h• . 10. 写出在氯气或钠气氛下,NaCl 形成 Na 或 Cl 空位的缺陷方程. 【答案】Cl2 气氛下形成 Na 空位:1 2 *H2(;b) = o# * + *H× *H + ?• ; Cl2 气氛下形成 Cl 空位:*H× *H = V • *H + 1 2 *H2(;b) + e# ; Na 气氛下形成 Na 空位:L× L = V # L + L(;b) + h• ; Na 气氛下形成 Cl 空位:L(;b) = V • *H + L× L + e# . 11. 请分别写出在氧气氛下 Mh2O5 和 Ml2O 掺杂 M2O3+x 氧化物的缺陷方程. 【答案】高价掺杂:J?2P5 = 2J?•• J + 2P## i + 3P× P 或 J?2P5 + 4h• = 2J?•• J + 3P× P + P2(;b); 低价掺杂:JH2P + P2(;b)=2JH## J + 3P× P + 4h• 或 JH2P + 2P## i = 2JH## J + 3P× P. 12.在存在多种阳离子的复合氧化物中,掺杂的阳离子进入哪个格位不是直接明了 的,需要根据一些因素进行判断,比如价态,离子半径等.请写出 La(阳离子为正三 价,进入 Ba 的格位)掺杂具有钙钛矿结构的 BaTiO3 的缺陷方程,掺杂产生的点缺陷 通过电子缺陷补偿. 【答案】G2P3 + 2hBP2 = 2G• " + 2hB× hB + 6P× P + 2e# + 1 2 P2(;b). 13. 请写出 Sc2O3 掺杂 CaTiO3 的缺陷方程,Sc 原子进入 Ti 的格位,掺杂缺陷通 过氧空位进行电荷补偿.