第四讲 薄膜材料制备的离子镀 及其他PVD方法 Preparation of thin films b ion plating and other Pvd methods
第四讲 薄膜材料制备的离子镀 及其他PVD方法 Preparation of thin films by ion plating and other PVD methods
◆离子镀方法的原理和特点 ◆各种各样的离子镀方法 ◆其他制备薄膜的PVD方法
提 要 ◆ 离子镀方法的原理和特点 ◆ 各种各样的离子镀方法 ◆ 其他制备薄膜的PVD方法
各种其他的物理气相沉积方法 还有一些不能简单划归蒸发、溅射法的PVD方 法,它们针对特定的应用目的,或是将不同的 手段结合在一起,或是对上述的某一种方法进 行了较大程度的改进,如 ◆离子镀 ◆反应蒸发沉积 离子束辅助沉积 离化团束沉积
◼ 还有一些不能简单划归蒸发、溅射法的PVD方 法，它们针对特定的应用目的，或是将不同的 手段结合在一起，或是对上述的某一种方法进 行了较大程度的改进，如 各种其他的物理气相沉积方法 ◆ 离子镀 ◆ 反应蒸发沉积 ◆ 离子束辅助沉积 ◆ 离化团束沉积 ……
离子镀技术的发展历史 1938年, Berghaus申请了离子镀的第一份专利 1963年, Mattox发明了二极离子镀 1972年, Bunshah发展了活性反应离子镀 1972年, Morley发明了空心阴极电弧离子镀 1973年,村山洋一发明了射频放电离子镀 20世纪80年代初,国内外相继开发了真空阴极 电弧离子镀、多弧离子镀 ◆如今离子镀技术已发展成为在工业中广泛应用 的一种重要的镀膜技术
离子镀技术的发展历史 ◆ 1938年，Berghau 申请了离子镀的第一份专利 ◆ 1963年，Mattox 发明了二极离子镀 ◆ 1972年，Bunshah发展了活性反应离子镀 ◆ 1972年，Morley发明了空心阴极电弧离子镀 ◆ 1973年，村山洋一发明了射频放电离子镀 ◆ 20世纪80年代初，国内外相继开发了真空阴极 电弧离子镀、 多弧离子镀 ◆ 如今离子镀技术已发展成为在工业中广泛应用 的一种重要的镀膜技术
离子镀 引言 定义 离子镀是一种在基片上施加偏压, 即在离子对基片和薄膜发生持续轰击的条件 下制备薄膜的PVD技术 在离子镀的过程中,沉积前和沉积过程中的 基片和薄膜表面经受着相当数量的高能离子 流和大量的高能中性物质的轰击 离子镀可以被看成是一种混合型的薄膜制备 方法—它兼有蒸发法和溅射法的优点
◼ 定义 ⎯⎯ 离子镀是一种在基片上施加偏压, 即在离子对基片和薄膜发生持续轰击的条件 下制备薄膜的PVD技术 ◼ 在离子镀的过程中，沉积前和沉积过程中的 基片和薄膜表面经受着相当数量的高能离子 流和大量的高能中性物质的轰击 ◼ 离子镀可以被看成是一种混合型的薄膜制备 方法 ⎯⎯ 它兼有蒸发法和溅射法的优点 离子镀 —— 引言