第5章配位滴定法 5.1概述 5.2 EDTA与金属离子的配合物及其稳定性 5.3外界条件对EDTA与金属离子配合物稳定性的影响 5.4配位滴定曲线 5.5金属指示剂确定滴定终点的方法 5.7配位滴定的方式和应用
1 5.1 概述 5.2 EDTA与金属离子的配合物及其稳定性 5.3 外界条件对EDTA与金属离子配合物稳定性的影响 5.4 配位滴定曲线 5.5 金属指示剂确定滴定终点的方法 5.7 配位滴定的方式和应用 第5章 配位滴定法
552 概述+EDTA >配位滴定法（络合滴定法）： 利用配位反应进行滴定分析的方法。 它是用配位剂作为标准溶液直接或间接滴定被测物质， 并选用适当的指示剂指示滴定终点。 >配位反应（络合反应）： 指生成配合物或配离子的反应。 >配合物（络合物）： 由中心离子同配位体以配位键结合而成。 中心离子提供空轨道，配位体提供孤对电子。 归东程子大军 Analytical Chemistry 2
Analytical Chemistry 2 配位滴定法(络合滴定法): 利用配位反应进行滴定分析的方法。 它是用配位剂作为标准溶液直接或间接滴定被测物质， 并选用适当的指示剂指示滴定终点。 配位反应（络合反应）： 指生成配合物或配离子的反应。 配合物（络合物）： 由中心离子同配位体以配位键结合而成。 中心离子提供空轨道，配位体提供孤对电子。 概述+EDTA
简单络合物 以CuNH3)42+为例 Cu2+:中心离子，d轨道未充满，电子对接受体； N:配位原子，含有孤对电子，电子给予体； NH:配位体，络合剂； HgN NH3 4个N:配位数； 4:配位体数. Cu2+ H3N NH3 无机配合物很多，但配位反应用于分析的并不多， 原因：K小，且逐级形成。 山东露2大军 SHANDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY Analytical Chemistry 3
Analytical Chemistry 3 简单络合物 以Cu(NH3 ) 4 2+为例 Cu2+:中心离子，d轨道未充满，电子对接受体; N:配位原子，含有孤对电子，电子给予体; NH3 :配位体，络合剂; 4个N:配位数; 4:配位体数. 无机配合物很多，但配位反应用于分析的并不多， 原因： K小，且逐级形成。 Cu NH3 NH3 H3N H3N 2+
简单络合物用于滴定分析： 氰量法 Ag*+2CN-=Ag(CN) Ni++4CN-=Ni(CN) 汞量法 Hg?+2CI=HgCh Hg?++2SCN-=Hg(SCN), 归东程子大军 Analytical Chemistry 4
Analytical Chemistry 4 简单络合物用于滴定分析： 氰量法 2 Ag 2CN Ag(CN) 2 4 2 Ni 4CN Ni(CN) 汞量法 2 2 Hg 2Cl HgCl 2 2 Hg 2SCN Hg(SCN)
螯合物 螯合物(Complex): 多基配体组成，配位能力强，易行成稳定的多环状的可溶性 配合物，常见的含有N,O,S配位原子的有机配体可用做滴定 剂和掩蔽剂。 (1)“00”型：酒石酸-A3+ HOCH.CH-C-O-U3AB0H OH OH HOHOHO OH 山东露2大军 SHANDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY Analytical Chemistry 5
Analytical Chemistry 5 螯合物 螯合物(Complex)： 多基配体组成，配位能力强，易行成稳定的多环状的可溶性 配合物，常见的含有N，O，S配位原子的有机配体可用做滴定 剂和掩蔽剂。 （1）“OO”型：酒石酸-Al3+