商业计划书一声业背景与公司概述 8- 微电子技术与材料研究所负责产品与技术的研发和更新换代,公司负责新产品的产业化、商品化。 在不断推广产品在集成电路制造领域应用的基础上,将产品与技术迅速扩展到液晶显示屏、电子玻 璃、计算机与电视机玻壳及光学玻璃、高档金属材料加工、油田提高二次采油率等领域,使企业逐 步形成规模,力争在短时间内全面替代国外产品,并逐渐进军海外市场。我们的目标是在五年内达 到年产值亿元人民币以上。最终将公司建设成为微电子行业专用材料的国际知名生产企业。 22.6公司产品 公司有以下三条主产品线 1.以“FAo超大规模集成电路(ULSn多层布线介质及铜布线化学机械全局平面化(cM 纳米磨料抛光液”为代表的高端产品线。 超大规模集成电路(ULSI)是国家“十五”期间的重大攻关项目。ULS每个芯片集成度最高可达几 十亿个元器件,特征尺寸已进入纳米级,这使得ULSI多层布线金属正由传统的AL向Cu转化,这样可使 布线层数减少一半,成本降低30%,加工时间缩短40%,2003年国际上已开始规模应用,市场约18 亿美元/年以上。超大规模集成电路(ULSI)多层布线介质及铜(u)布线化学机械全局平面化(CMP 是今后世界集成电路制造业急待解决的难题,目前世界各国正在封闭研发这一工序所需的抛光材料 我方在该项目上已率先实现了技术突破,在国际上首次研究成功无离子FO超大规模集成电路 (ULSI)多层布线介质及铜(Cu)布线化学机械全局平面化(CMP)纳米磨料抛光液。该产品能有效控 制铜离子沾污,具有高速率、低损伤、高选择性,高清洁度等优点,该产品的成功研制标志着我方技术 已达到国际领先水平,为微电子第三代布线做出创造性贡献。该成果已在中科院微电子中心国家重大攻 关项目“集成电路铜布线制作”中得以应用,取得了很好的效果并完成台湾第一期评估,2002年获天津 市发明一等奖,现正申报国家发明奖。 2.以“FAo集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液为代表的主产品线 FAO集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液获国家发明三等奖,其中还应用了1999年获国家发明三等 奖的能够提高抛光镜面光洁度的FAO活性剂。该产品被评为国家级新产品并被列入国家重点推广计划。 本产品由于表面张力低、活性强、易清洗、浓缩度高,便于运输与保存,价格仅为进口产品的1/2 已经在国家微电子一级企业中国华晶电子集团公司、国家最大硅材料厂络阳740厂、深爱半导体有限公 司、吉林华微电子集团等十几条引进生产线上开始取代在世界微电子行业一直占霸主地位的美国 Rodel 公司的Nao系列产品。现已开始向台湾出口并签订代理销售合同,为国家节省了大量外汇并创汇。 FAO系列纳米磨料抛光液2001年被列入天津市“十五”重大攻关项目,获得无偿资助100万元。 3.以“FAO电子材料清洗剂、半导体材料切削液、倒角液、磨削液、活性剂”为代表的换代产 品线 FA/O电子材料清洗剂 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有,未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方
商业计划书-产业背景与公司概述 -8- 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有，未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方 微电子技术与材料研究所负责产品与技术的研发和更新换代，公司负责新产品的产业化、商品化。 在不断推广产品在集成电路制造领域应用的基础上，将产品与技术迅速扩展到液晶显示屏、电子玻 璃、计算机与电视机玻壳及光学玻璃、高档金属材料加工、油田提高二次采油率等领域，使企业逐 步形成规模，力争在短时间内全面替代国外产品，并逐渐进军海外市场。我们的目标是在五年内达 到年产值亿元人民币以上。最终将公司建设成为微电子行业专用材料的国际知名生产企业。 2.2.6 公司产品 公司有以下三条主产品线： 1. 以“FA/O 超大规模集成电路（ULSI）多层布线介质及铜布线化学机械全局平面化（CMP） 纳米磨料抛光液”为代表的高端产品线。 超大规模集成电路（ULSI）是国家“十五”期间的重大攻关项目。ULSI 每个芯片集成度最高可达几 十亿个元器件，特征尺寸已进入纳米级，这使得 ULSI 多层布线金属正由传统的 AL 向 Cu 转化，这样可使 布线层数减少一半，成本降低 30％，加工时间缩短 40％， 2003 年国际上已开始规模应用，市场约 18 亿美元／年以上。超大规模集成电路（ULSI）多层布线介质及铜（Cu）布线化学机械全局平面化（CMP） 是今后世界集成电路制造业急待解决的难题，目前世界各国正在封闭研发这一工序所需的抛光材料。 我方在该项目上已率先实现了技术突破，在国际上首次研究成功无离子 FA/O 超大规模集成电路 （ULSI）多层布线介质及铜（Cu）布线化学机械全局平面化（CMP）纳米磨料抛光液。该产品能有效控 制铜离子沾污，具有高速率、低损伤、高选择性，高清洁度等优点，该产品的成功研制标志着我方技术 已达到国际领先水平，为微电子第三代布线做出创造性贡献。该成果已在中科院微电子中心国家重大攻 关项目“集成电路铜布线制作”中得以应用，取得了很好的效果并完成台湾第一期评估，2002 年获天津 市发明一等奖，现正申报国家发明奖。 2. 以“FA/O 集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液”为代表的主产品线 FA/O 集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液获国家发明三等奖，其中还应用了 1999 年获国家发明三等 奖的能够提高抛光镜面光洁度的 FA/O 活性剂。该产品被评为国家级新产品并被列入国家重点推广计划。 本产品由于表面张力低、活性强、易清洗、浓缩度高，便于运输与保存，价格仅为进口产品的 1/2， 已经在国家微电子一级企业中国华晶电子集团公司、国家最大硅材料厂络阳 740 厂、深爱半导体有限公 司、吉林华微电子集团等十几条引进生产线上开始取代在世界微电子行业一直占霸主地位的美国 Rodel 公司的 Nalco 系列产品。现已开始向台湾出口并签订代理销售合同，为国家节省了大量外汇并创汇。 FA/O 系列纳米磨料抛光液 2001 年被列入天津市“十五”重大攻关项目，获得无偿资助 100 万元。 3. 以“FA/O电子材料清洗剂、半导体材料切削液、倒角液、磨削液、活性剂”为代表的换代产 品线 ➢ FA/O 电子材料清洗剂
商业计划书一声业背景与公司概述 FAO电子材料清洗剂,其金属离子含量远远低于世界知名的美国 Parker公司和日本“花王”的产品 而且它属于环保型水基清洗剂,完全可代替微电子用1、2、3号液及氟里昂、三氯乙烷等ODS清洗剂, 能够有效地清洗ULSI衬底、电子玻璃及LCD屏等固体表面上的金属离子、有机、无机杂质和固体粒子 与同类产品相比具有清洗时间短、渗透力强、浓缩度高、使用方便、安全、无毒、对人体无危害、对环 境无污染、对大气臭氧层无破坏作用等优点。已被国家指定的ODS检测机构信息产业部46所检查确认 该产品达到国际先进水平。为我国电子行业取代破坏臭氧层的ODS产品做出了贡献,具有巨大的社会效 益。本产品现已被我国大型的LCD生产厂家深圳天马微电子公司、河北冀雅电子有限公司( MOTOROLA 指定生产厂)等多家公司确认为指定清洗产品。在ULSI衬底抛光片清洗工艺中采用FAO电子材料清洗 剂,可有效控制镜面吸附状态长期处于易清洗的物理吸附状态,在该项目提示的技术理论发明的指导下, 硅单晶片抛光后存放时间由正常不足四小时,增至68小时,实现了集中清洗,大大提高了效率,节省了 大量人力、物力(化学试剂、电、去离子水等),工艺简化,省去了效率低(一片一片依次清洗)、造成 损伤、返修率高、价格昂贵(30多万美元/台)、工艺复杂的双面刷片机工艺。仅节省刷片及工艺一项就 为国家节省外汇5900多万元。 随着科学技术的进步,微电子行业取得迅猛发展,既使在第三世界国家电子产品也开始步入家庭 未来的二十一世纪将是一个电子竞争的时代。作为微电子产品加工过程中重要消耗材料之一的清洗剂, 需求量将越来越大。FAO电子材料清洗剂除能代替进口产品外,还可大量出口,仅台湾地区的年需求量 就可达数千吨。该产品市场前景广阔,市场需求数量很大,是急待推广的高科技产品。 微电子材料系列辅助产品 除上述产品外,我方已研发成功的微电子材料系列辅助产品还包括:半导体材料切削液、倒角液 磨削液等。以上产品均采用化学渗透和机械作用相结合的机理,代替了单纯以强机械作用为机理的相关 产品,应力小,损伤层小,有效控制碎片,提高效率,增加刀具寿命,是很好的更新换代产品。以上系 列产品已开始与同类进口产品争夺市场,引起了美、日等国公司的高度注意。我们的产品在质量与价格 上有明显优势 227知识产权情况 本项目系列产品均为河北工业大学微电子研究所所长刘玉岭教授发明并开发,属自主开发 228技术成熟性和产品可靠性论述 我方技术成熟,产品可靠性强,在集成电路与基础材料工程技术、多种材料的更新换代、技术 创新等方面取得多项重大发明成果,如IC硅单晶衬底材料抛光与检测新技术及清洗材料,硅外延 材料制备新技术,硅/硅材料新键合技术,硅单晶片新型抛光材料,IC衬底材料有害金属杂质与二 次缺陷控制新技术等。获国家专利五项,获国家发明奖五项(包括FNO-MOS型抛光液82年获国 家发明四等奖;硅外延BC技术87年获国家发明三等奖;硅器件衬底滑移线消除技术90年获国家 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有,未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方
商业计划书-产业背景与公司概述 -9- 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有，未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方 FA/O 电子材料清洗剂，其金属离子含量远远低于世界知名的美国 Parker 公司和日本“花王”的产品， 而且它属于环保型水基清洗剂，完全可代替微电子用 1、2、3 号液及氟里昂、三氯乙烷等 ODS 清洗剂， 能够有效地清洗 ULSI 衬底、电子玻璃及 LCD 屏等固体表面上的金属离子、有机、无机杂质和固体粒子， 与同类产品相比具有清洗时间短、渗透力强、浓缩度高、使用方便、安全、无毒、对人体无危害、对环 境无污染、对大气臭氧层无破坏作用等优点。已被国家指定的 ODS 检测机构信息产业部 46 所检查确认： 该产品达到国际先进水平。为我国电子行业取代破坏臭氧层的 ODS 产品做出了贡献，具有巨大的社会效 益。本产品现已被我国大型的 LCD 生产厂家深圳天马微电子公司、河北冀雅电子有限公司（MOTOROLA 指定生产厂）等多家公司确认为指定清洗产品。在 ULSI 衬底抛光片清洗工艺中采用 FA/O 电子材料清洗 剂，可有效控制镜面吸附状态长期处于易清洗的物理吸附状态，在该项目提示的技术理论发明的指导下， 硅单晶片抛光后存放时间由正常不足四小时，增至 68 小时，实现了集中清洗，大大提高了效率，节省了 大量人力、物力（化学试剂、电、去离子水等），工艺简化，省去了效率低（一片一片依次清洗）、造成 损伤、返修率高、价格昂贵（30 多万美元/台）、工艺复杂的双面刷片机工艺。仅节省刷片及工艺一项就 为国家节省外汇 5900 多万元。 随着科学技术的进步，微电子行业取得迅猛发展，既使在第三世界国家电子产品也开始步入家庭， 未来的二十一世纪将是一个电子竞争的时代。作为微电子产品加工过程中重要消耗材料之一的清洗剂， 需求量将越来越大。FA/O 电子材料清洗剂除能代替进口产品外，还可大量出口，仅台湾地区的年需求量 就可达数千吨。该产品市场前景广阔，市场需求数量很大，是急待推广的高科技产品。 ➢ 微电子材料系列辅助产品 除上述产品外，我方已研发成功的微电子材料系列辅助产品还包括： 半导体材料切削液、倒角液、 磨削液等。以上产品均采用化学渗透和机械作用相结合的机理，代替了单纯以强机械作用为机理的相关 产品，应力小，损伤层小，有效控制碎片，提高效率，增加刀具寿命，是很好的更新换代产品。 以上系 列产品已开始与同类进口产品争夺市场，引起了美、日等国公司的高度注意。我们的产品在质量与价格 上有明显优势。 2.2.7 知识产权情况 本项目系列产品均为河北工业大学微电子研究所所长刘玉岭教授发明并开发，属自主开发。 2.2.8 技术成熟性和产品可靠性论述 我方技术成熟，产品可靠性强，在集成电路与基础材料工程技术、多种材料的更新换代、技术 创新等方面取得多项重大发明成果，如 IC 硅单晶衬底材料抛光与检测新技术及清洗材料，硅外延 材料制备新技术，硅／硅材料新键合技术，硅单晶片新型抛光材料，IC 衬底材料有害金属杂质与二 次缺陷控制新技术等。获国家专利五项，获国家发明奖五项（包括 FNO－MOS 型抛光液 82 年获国 家发明四等奖；硅外延 BC 技术 87 年获国家发明三等奖；硅器件衬底滑移线消除技术 90 年获国家
商业计划书一声业背景与公司概述 -10- 发明四等奖;FAO无磨料均腐蚀抛光液90年获国家发明三等奖;用化学方法提高固体表面光洁度 99年获国家发明三等奖),省部级科技进步奖十八项,国内外发表技术论文100多篇,部分成果取 代了国外先进产品与技术,实现了更新换代。FAO抛光液可代替美、日进口产品,并开始打入国 际市场。另外,研制的ULSI多层布线SO2介质化学机械全局平面化科研成果已通过国家鉴定。200 年获国家科技部科技型中小企业创新基金100万元,2001年获天津市重大攻关项目无偿资助 万元。我方已完成批量规模生产,2001年已经通过Iso9001(2000版)质量认证。多年以来未出 现任何因质量问题而退货的情况,用户满意率为100%,并被美国 MOTOROLA公司确认为指定产 品。其技术及产品已在冀、京、津、沪、苏、浙等十多个省市的引进生产线上取代了美、日进口产 品,实现了更新换代,为国家创造效益近亿元 2.2.9环境保证与劳动安全 不存在工业污染,不存在危险物品,能够保证生产人安全。 22.10特殊行业许可证报批情况 本项目系列产品不是特殊行业产品,属于电子化工材料,系列产品不是最终产品,不需要特殊 的许可证管制,在生产销售中,按用户要求和有关安全规定组织生产和销售即可。 2.3市场开发策略 我方系列产品可广泛应用于国内外各微电子产品生产线。国内各大集成电路(IC)生产企业是 我们已渐开发并有待拓展的第一市场。目前,占世界C加工量第三的我国台湾地区将是我们进入 的第二市场。随着生产规模的不断扩大,逐鹿国际市场将是我们的第三个目标。随着公司的发展 产业结构多元化,可逐步拓展民用市场。 我方产品现己渐渐在大型企业的进口生产线上取代美日进口产品,主要用户有中国华晶电子集 团公司、北京有研硅股份有限公司、天津 Motoro1a公司、洛阳740厂、河北冀雅电子有限公司、 天马微电子科技公司、深爱半导体厂、吉林华微半导体厂等。 今后,国内将加大向上海华虹电子集团、北京首钢日电、上海先进半导体有限公司、上海贝岭 微电子制造有限公司、华越微电子有限公司、宁波浙大海纳半导体有限公司等企业抛光液市场的推 广;逐渐扩大广东、江苏、福建、吉林等地区的电子清洗液市场;继续加大上海、浙冮、河南、河 北、陕西等地区的磨削液相关产品的推广;大力推进各大油田提高采油率的活性剂及各种替代○DS 清洗剂的市场;同时加大我方部分产品对台湾地区及国外的规模出口。 当前,发明人主要从事科研开发,各产品的销售属于被动营销,极大的影响了产品的销售工作。 今后将通过我们的市场营销队伍来进一步调研国内市场。找出关键用户,重点突破,取得经验,逐 步扩展,分类实施,以扩大销售。目前公司产品的主要用户——中国华晶电子集团公司、洛阳7 厂等均已做完了适应性试验,并已成批应用。这些单位是国家大型企业,影响面大,有代表性,为 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有,未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方
商业计划书-产业背景与公司概述 -10- 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有，未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方 发明四等奖；FA/O 无磨料均腐蚀抛光液 90 年获国家发明三等奖；用化学方法提高固体表面光洁度 99 年获国家发明三等奖），省部级科技进步奖十八项，国内外发表技术论文 100 多篇，部分成果取 代了国外先进产品与技术，实现了更新换代。FA/O 抛光液可代替美、日进口产品，并开始打入国 际市场。另外，研制的 ULSI 多层布线 SiO2 介质化学机械全局平面化科研成果已通过国家鉴定。2000 年获国家科技部科技型中小企业创新基金 100 万元，2001 年获天津市重大攻关项目无偿资助 100 万元。我方已完成批量规模生产，2001 年已经通过 ISO9001（2000 版）质量认证。多年以来未出 现任何因质量问题而退货的情况，用户满意率为 100%，并被美国 MOTOROLA 公司确认为指定产 品。其技术及产品已在冀、京、津、沪、苏、浙等十多个省市的引进生产线上取代了美、日进口产 品，实现了更新换代，为国家创造效益近亿元。 2.2.9 环境保证与劳动安全 不存在工业污染，不存在危险物品，能够保证生产人安全。 2.2.10 特殊行业许可证报批情况 本项目系列产品不是特殊行业产品，属于电子化工材料，系列产品不是最终产品，不需要特殊 的许可证管制，在生产销售中，按用户要求和有关安全规定组织生产和销售即可。 2.3 市场开发策略 我方系列产品可广泛应用于国内外各微电子产品生产线。国内各大集成电路（IC）生产企业是 我们已渐开发并有待拓展的第一市场。目前，占世界 IC 加工量第三的我国台湾地区将是我们进入 的第二市场。随着生产规模的不断扩大，逐鹿国际市场将是我们的第三个目标。随着公司的发展， 产业结构多元化，可逐步拓展民用市场。 我方产品现已渐渐在大型企业的进口生产线上取代美日进口产品，主要用户有中国华晶电子集 团公司、北京有研硅股份有限公司、天津 Motoro1a 公司、洛阳 740 厂、河北冀雅电子有限公司、 天马微电子科技公司、深爱半导体厂、吉林华微半导体厂等。 今后，国内将加大向上海华虹电子集团、北京首钢日电、上海先进半导体有限公司、上海贝岭 微电子制造有限公司、华越微电子有限公司、宁波浙大海纳半导体有限公司等企业抛光液市场的推 广；逐渐扩大广东、江苏、福建、吉林等地区的电子清洗液市场；继续加大上海、浙江、河南、河 北、陕西等地区的磨削液相关产品的推广；大力推进各大油田提高采油率的活性剂及各种替代 ODS 清洗剂的市场；同时加大我方部分产品对台湾地区及国外的规模出口。 当前，发明人主要从事科研开发，各产品的销售属于被动营销，极大的影响了产品的销售工作。 今后将通过我们的市场营销队伍来进一步调研国内市场。找出关键用户，重点突破，取得经验，逐 步扩展，分类实施，以扩大销售。目前公司产品的主要用户——中国华晶电子集团公司、洛阳 740 厂等均已做完了适应性试验，并已成批应用。这些单位是国家大型企业，影响面大，有代表性，为
商业计划书一声业背景与公司概述 -11- 规模生产后大面积在全国推广打下了极为有利的基础 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有,未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方
商业计划书-产业背景与公司概述 -11- 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有，未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方 规模生产后大面积在全国推广打下了极为有利的基础
商业计划书-市场调查和分析 第三章、市场调查和分析 我方研发经营的高新技术产品主要用于半导体器件超大规模集成电路(简称ULSI)衬底硅材料 单晶片的抛光;超大规模集成电路多层布线中介质电极金属布线全局平面化的抛光;以及电子玻璃 及液晶显示器(LCD)等的抛光及清洗工序。超大规模集成电路的加工都要以抛光好的硅片作为其 基础。硅片的制造要经过拉单晶、单晶切片、磨片、倒角、抛光、清洗等工序,最终产品的成品率 主要决定于硅片抛光后的光洁度及平整度。半导体材料切削液、倒角液、磨削液、抛光液和清洗剂 是硅片加工过程中必不可少的原料耗材,其品质和性能的高低直接决定了硅片抛光的成品率。抛光 液的性能低下不仅影响生产效率,更造成了大量的废片,由于硅片成本很高,给企业带来巨大的经 济损失,所以硅片抛光的成品率已经成为衡量世界各国微电子水平的重要标志 超大规模集成电路(ULSI)衬底材料加工的高洁净、低损伤、高平整、高完美是保证硅片抛光 成品率的重要技术指标。我方通过选择高质低价环保型的材料对以上四项关键技术难题进行了技术 创新,取得了多项突破性成果,形成了拥有自主知识产权的技术与产品。 本系列产品主要包括半导体器件超大规模集成电路FAO系列半导体材料抛光液、高纯多功能 非离子界面活性剂、系列电子清洗剂、铜抛光液、切削液、磨削液、倒角液等产品及相应的使用技 术。其中有五项获国家发明奖、五项获国家专利、九项获国内外发明展奖、十八项获省部级科技进 步奖,并且超过了国内外同类技术与产品,为用户创造效益近亿元。FAO抛光液属于国家级新产 品,并被国家科技部、国家劳动部、国家技术监督局、外国专家局、工商银行列为国家级科技成果 重点推广计划,已在一些国家大型企业替代了美国、日本进口产品,并已开始进入国际市场。电子 清洗剂2001年被国家五部委(国家科技部、国家税务总局、外经贸部、国家质量监督检测检疫总 局、国家环保总局)确定为国家级重点推广新产品。 3.1客户 1.大陆地区客户 我方产品在大陆地区已发展或潜在的客户按产品系列划分如下 FA/o抛光液、磨削液、切削液、清洗剂、FA/O活性剂 主要客户为洛阳740厂、华山741厂、峨眉739厂、开化601厂、北京有研硅股份有限公司、无 锡华晶电子有限公司、吉林华微电子有限公司(908)、浙大海纳股份有限公司、西安卫光电子有限 公司、深圳深爱电子有限公司、上海硅材料厂、秦皇岛硅材料厂、天津环欧硅材料厂等国家大中型 微电子企业,以及以北京东方电子厂、石家庄无线电二厂、横阳无线电厂、丹东电子厂、江苏启东 捷捷微电子公司等众多中小型企业和众多民营企业。 ULSI多层铜布线、介质CMP抛光液、清洗剂 主要是以上海贝岭、北京有研硅股份有限公司、浙大海纳股份有限公司、上海华虹(909)、首钢日 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有,未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方
商业计划书-市场调查和分析 -12- 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有，未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方 第三章、市场调查和分析 我方研发经营的高新技术产品主要用于半导体器件超大规模集成电路（简称 ULSI）衬底硅材料 单晶片的抛光；超大规模集成电路多层布线中介质电极金属布线全局平面化的抛光；以及电子玻璃 及液晶显示器（LCD）等的抛光及清洗工序。超大规模集成电路的加工都要以抛光好的硅片作为其 基础。硅片的制造要经过拉单晶、单晶切片、磨片、倒角、抛光、清洗等工序，最终产品的成品率 主要决定于硅片抛光后的光洁度及平整度。半导体材料切削液、倒角液、磨削液、抛光液和清洗剂 是硅片加工过程中必不可少的原料耗材，其品质和性能的高低直接决定了硅片抛光的成品率。抛光 液的性能低下不仅影响生产效率，更造成了大量的废片，由于硅片成本很高，给企业带来巨大的经 济损失，所以硅片抛光的成品率已经成为衡量世界各国微电子水平的重要标志。 超大规模集成电路（ULSI）衬底材料加工的高洁净、低损伤、高平整、高完美是保证硅片抛光 成品率的重要技术指标。我方通过选择高质低价环保型的材料对以上四项关键技术难题进行了技术 创新，取得了多项突破性成果，形成了拥有自主知识产权的技术与产品。 本系列产品主要包括半导体器件超大规模集成电路 FA/O 系列半导体材料抛光液、高纯多功能 非离子界面活性剂、系列电子清洗剂、铜抛光液、切削液、磨削液、倒角液等产品及相应的使用技 术。其中有五项获国家发明奖、五项获国家专利、九项获国内外发明展奖、十八项获省部级科技进 步奖，并且超过了国内外同类技术与产品，为用户创造效益近亿元。FA/O 抛光液属于国家级新产 品，并被国家科技部、国家劳动部、国家技术监督局、外国专家局、工商银行列为国家级科技成果 重点推广计划，已在一些国家大型企业替代了美国、日本进口产品，并已开始进入国际市场。电子 清洗剂 2001 年被国家五部委（国家科技部、国家税务总局、外经贸部、国家质量监督检测检疫总 局、国家环保总局）确定为国家级重点推广新产品。 3.1 客户 1. 大陆地区客户 我方产品在大陆地区已发展或潜在的客户按产品系列划分如下： ➢ FA/O 抛光液、磨削液、切削液、清洗剂、FA/O 活性剂 主要客户为洛阳 740 厂、华山 741 厂、峨眉 739 厂、开化 601 厂、北京有研硅股份有限公司、无 锡华晶电子有限公司、吉林华微电子有限公司（908）、浙大海纳股份有限公司、西安卫光电子有限 公司、深圳深爱电子有限公司、上海硅材料厂、秦皇岛硅材料厂、天津环欧硅材料厂等国家大中型 微电子企业，以及以北京东方电子厂、石家庄无线电二厂、横阳无线电厂、丹东电子厂、江苏启东 捷捷微电子公司等众多中小型企业和众多民营企业。 ➢ ULSI 多层铜布线、介质 CMP 抛光液、清洗剂 主要是以上海贝岭、北京有研硅股份有限公司、浙大海纳股份有限公司、上海华虹（909）、首钢日