商业计划书-市场调查和分析 电、吉林华微电子有限公司(908)、浙江华越(907)、上海宏力、 MOTOLOLA(天津)、上海中芯、 上海先进、北京信创、杭州士兰等投巨资兴建的8英寸、6英寸生产线为代表的巨型企业,如考虑 到从2003年国际上开始规模使用铜布线的市场,而我方产品在全世界的ULS多层铜布线CMP抛 光液领域技术和时间上的领先性,必将给我们带来众多的战略性客户 FA/oLCD清洗剂、电子玻璃清洗剂 主要有广东省深圳天马微电子有限公司、河北冀雅微电子有限公司、陵达微电子有限公司为代表的 计算器、手表、手提电话、掌上电脑(PDA)、笔记本电脑液晶显示器以及其它液晶显示器企业。 替代ODS清洗剂 由于我方产品性能上的优越性,产品可扩展领域十分广泛,如高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢 模具、提高二次采油率,以及世界清洗行业推动的替代◎DS清洗剂等领域,这些领域涉及行业 企业众多,我们将拥有庞大的客户群体。 2.台湾地区客户 目前,台湾地区有两家公司广润科技与微邦科技在生产CMP抛光液及清洗剂等产品,是 全球极少数的CMP抛光液专业生产厂家之一,其引进的是美国生产技术,但由于缺少美 方关键工艺技术支持,CMP抛光液及清洗剂等产品未能达到设计参数指标,在我方刘玉岭 教授的悉心研究指导下,经使用我方活性剂完全解决了台方的技术工艺等问题,并为我方 产品在台湾地区的推广奠定了坚实的基础。 32市场容量和趋势 2003年,(1)国内FAO抛光液、磨削液、切削液、清洗剂、F/O活性剂系列产品市场达亿 元;CMP抛光液、清洗剂系列产品市场有5亿元左右; FAO LCD清洗剂、电子玻璃清洗剂系列产 品市场上亿元;高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢模具、提高二次采油率以及替代ODS清洗剂 等领域市场近十亿元。(2)全球CMP抛光液的市场约有5~6亿美金;ULSI多层铜布线CMP抛光 液市场也需求急速增长。 未來3年,国内LC市场将维持30%的增长率,同比带动其相关耗材的市场增长。预计在2005 年仅CMP抛光液的全球市场就可达到11~12亿美金,大陆与台湾的市场将成长至15亿元人民币 的市场规模。 3.3同类产品指标对比 通过国家科委定点单位天津市科学技术信息研究所查新报告和专家鉴定结论确定本项目属于 国际先进水平、部分参数国际领先。 与国内外主要产品先进技术的对比(各举一例)如下 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有,未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方
商业计划书-市场调查和分析 -13- 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有，未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方 电、吉林华微电子有限公司（908）、浙江华越（907）、上海宏力、MOTOLOLA（天津）、上海中芯、 上海先进、北京信创、杭州士兰等投巨资兴建的 8 英寸、6 英寸生产线为代表的巨型企业，如考虑 到从 2003 年国际上开始规模使用铜布线的市场，而我方产品在全世界的 ULSI 多层铜布线 CMP 抛 光液领域技术和时间上的领先性，必将给我们带来众多的战略性客户。 ➢ FA/O LCD 清洗剂、电子玻璃清洗剂 主要有广东省深圳天马微电子有限公司、河北冀雅微电子有限公司、陵达微电子有限公司为代表的 计算器、手表、手提电话、掌上电脑（PDA）、笔记本电脑液晶显示器以及其它液晶显示器企业。 ➢ 替代 ODS 清洗剂 由于我方产品性能上的优越性，产品可扩展领域十分广泛，如高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢 模具、提高二次采油率，以及世界清洗行业推动的替代 ODS 清洗剂等领域，这些领域涉及行业、 企业众多，我们将拥有庞大的客户群体。 2. 台湾地区客户 目前，台湾地区有两家公司广润科技与微邦科技在生产 CMP 拋光液及清洗剂等产品，是 全球极少数的 CMP 拋光液专业生产厂家之一，其引进的是美国生产技术，但由于缺少美 方关键工艺技术支持，CMP 拋光液及清洗剂等产品未能达到设计参数指标，在我方刘玉岭 教授的悉心研究指导下，经使用我方活性剂完全解决了台方的技术工艺等问题，并为我方 产品在台湾地区的推广奠定了坚实的基础。 3.2 市场容量和趋势 2003 年，（1）国内 FA/O 抛光液、磨削液、切削液、清洗剂、FA/O 活性剂系列产品市场达亿 元；CMP 抛光液、清洗剂系列产品市场有 5 亿元左右；FA/O LCD 清洗剂、电子玻璃清洗剂系列产 品市场上亿元；高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢模具、提高二次采油率以及替代 ODS 清洗剂 等领域市场近十亿元。（2）全球 CMP 拋光液的市场约有 5~6 亿美金；ULSI 多层铜布线 CMP 抛光 液市场也需求急速增长。 未來 3 年，国内 IC 市场将维持 30％的增长率，同比带动其相关耗材的市场增长。预计在 2005 年仅 CMP 拋光液的全球市场就可达到 11~12 亿美金，大陆与台湾的市场将成长至 15 亿元人民币 的市场规模。 3.3 同类产品指标对比 通过国家科委定点单位天津市科学技术信息研究所查新报告和专家鉴定结论确定本项目属于 国际先进水平、部分参数国际领先。 与国内外主要产品先进技术的对比（各举一例）如下：
商业计划书-市场调查和分析 -14- 1.国际先进ULSI多层铜布线CMP介质抛光液对比 单位 河北工业大学 美国 Cabot 备注 机理楼型强络合、低氧化模型强机械研磨模型机械研磨易划伤、损伤层大 磨料 水溶胶 煅制的AhO 煅制成本高 磨料粒径 nm 400nm 磨粒大抛光质量低 PH值 9-10 2-3 酸性易腐蚀设备 选择性 60:1 选择性高,平整度好 抛光速率 800-900/分钟200300mm/分钟速率大效率高 增膜剂 苯丙三唑 增膜剂成本高,速率低,工艺复杂 铜离子控制自主发明的螯合剂 「铜离子污染重 氧化剂 复合 络合剂 有 络合剂降低氧化力,抛光速率快 清洗难度 难 损伤层 价格50元/k92040元/k9 2.FA/O抛光液与国际上最先进的产品比较 FA/O抛光液 美国Naco 粒径(nm) 20-30 5070 PH值 9-10 10-12 使用温度(℃) 0-80 20-50 价格(元/kg) 25-45 70-90 3.FA/OLCD电子清洗剂与国际上最先进的产品比较 日本花王 美国 Parker 山东大学 河北工业大学 Na+含量(ppm) 32000 11000 >420 42 PH值 浓缩度 1.1:1 1.1:1 7:1 可达20:1 渗透力 >60 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有,未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方
商业计划书-市场调查和分析 -14- 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有，未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方 1. 国际先进 ULSI 多层铜布线 CMP 介质抛光液对比 单 位 项 目 河北工业大学 美国 Cabot 备注 机理模型 强络合、低氧化模型 强机械研磨模型 机械研磨易划伤、损伤层大 磨 料 水溶胶 煅制的 Al2O3 煅制成本高 磨料粒径 15-20 nm 400 nm 磨粒大抛光质量低 PH 值 9-10 2-3 酸性易腐蚀设备 选择性 60：1 40：1 选择性高，平整度好 抛光速率 800-900nm/分钟 200-300 nm/分钟 速率大效率高 增膜剂 无 苯丙三唑 增膜剂成本高，速率低，工艺复杂 铜离子控制 自主发明的螯合剂 无 铜离子污染重 氧化剂 单一 复合 络合剂 有 无 络合剂降低氧化力，抛光速率快 清洗难度 易 难 损伤层 小 大 价 格 50 元/kg 200-400 元/kg 2. FA/O 抛光液与国际上最先进的产品比较 产 品 项 目 FA/O 抛光液 美国 Nalco 粒 径（nm） 20-30 50-70 PH 值 9-10 10-12 使用温度（℃） 20-80 20-50 清 洗 易 难 价 格（元/kg） 25-45 70-90 3. FA/O LCD 电子清洗剂与国际上最先进的产品比较 单 位 项 目 日本花王 美国 Parker 山东大学 河北工业大学 Na+含量（ppm） 32000 11000 >420 42 PH 值 11 11 10 9 浓缩度 1.1:1 1.1:1 7:1 可达 20：1 渗透力 >60 >60 >60 50
商业计划书-市场调查和分析 -15- 售价(元/kg 170 0 20 34原材料供应 原材料供应商都通过我方认真考核,并确定两家以上为长期供应商,确保质量,供应充足。 主要原材料供应厂家列表如下 原材料名称 生产厂家 计划年采购量(吨) 有机碱 张家港化工厂、天津化工厂 氧化剂 北京化工厂、天津化工厂 500 催化剂 张家港化工厂、北京化工厂 1000 无离子高效水溶蝥合剂 北工业大学微电子研究所 助溶剂 石家庄化工厂、天津试剂厂 500 金属离子去除剂 河北工业大学微电子研究所 10 增膜剂 石家庄化工厂、天津试剂厂 500 纳米磨料 河北第二化工厂、唐山化工厂 3.5竞争与竞争优势 35.1进入障碍分析 通过吸收投资解决资金短缺问题 资金壁垒 关系壁垒 利用现有政策寻求政府支持,以及形成的良好客户关系 进入障碍 利用刘玉岭教授数十年的科研成果一处于国际领先地 技术壁垒 位的技术和产品 人才壁垒 依托河北工业大学微电子研究所强大的专业人才储备 3.52竞争优势 在未来的市场竞争中,我方除了前面陈述的产品价格绝对优势外还具有 1.政策优势 国务院《鼓励软件企业和集成电路产业发展的若干政策》(国发[2000]18号)的颁布,为 我们提供了政策保障及企业税收优惠。本项目符合我国大力发展精细化工及微电子领域的 方针政策以及由国家环保总局和信息产业部组织制定的《中国清洗行业ODS整体淘汰计 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有,未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方
商业计划书-市场调查和分析 -15- 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有，未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方 售 价(元/kg) 170 90 ------ 20 3.4 原材料供应 原材料供应商都通过我方认真考核，并确定两家以上为长期供应商，确保质量，供应充足。 主要原材料供应厂家列表如下： 原材料名称 生产厂家 计划年采购量（吨） 有机碱 张家港化工厂、天津化工厂 1000 氧化剂 北京化工厂、天津化工厂 500 催化剂 张家港化工厂、北京化工厂 1000 无离子高效水溶螯合剂 河北工业大学微电子研究所 2 助溶剂 石家庄化工厂、天津试剂厂 500 金属离子去除剂 河北工业大学微电子研究所 10 增膜剂 石家庄化工厂、天津试剂厂 500 纳米磨料 河北第二化工厂、唐山化工厂 2000 3.5 竞争与竞争优势 3.5.1 进入障碍分析 通过吸收投资解决资金短缺问题 利用现有政策寻求政府支持，以及形成的良好客户关系 利用刘玉岭教授数十年的科研成果—处于国际领先地 位的技术和产品 依托河北工业大学微电子研究所强大的专业人才储备 3.5.2 竞争优势 在未来的市场竞争中，我方除了前面陈述的产品价格绝对优势外还具有： 1. 政策优势 国务院《鼓励软件企业和集成电路产业发展的若干政策》（国发[2000]18 号）的颁布，为 我们提供了政策保障及企业税收优惠。本项目符合我国大力发展精细化工及微电子领域的 方针政策以及由国家环保总局和信息产业部组织制定的《中国清洗行业 ODS 整体淘汰计 技术壁垒 资金壁垒 进入障碍 关系壁垒 人才壁垒
商业计划书-市场调查和分析 划》的要求,具有自主的知识产权。 2.技术优势 本项目已有了成熟的研究基础及成果,在硅单晶衬底材料抛光、清洗与检测;分立器件与 大规模集成电路制备技术优化等多种材料的更新换代、技术创新方面取得多项重大发明成 果,先后完成了国家、天津市、河北省多项自然基金项目,获得了天津市重大攻关项目和 国家中小企业创新基金各100万元,并发表了100余篇相关论文,先后获国家发明三等奖、 四等奖共5次、五项获国家专利、九项获国内外发明展奖、十八项获省部级科技进步奖。 3.装备优势 该系列产品的装备是由我方自行设计安装,具有工艺简单,效率高,投资低,适合该产品 的生产流程等特点。 4.人员优势 刘玉岭教授,产品第一发明人,他多年来亲自到科研院所及企业用户的第一线,了解国内 外前沿技术信息、用户需求和市场,并有一套较实用的先进的实施技术,是具有创新能力 与实施能力突出的复合型国家级有突出贡献的专家。 主要技术人员长期从事集成电路、高频器件的基础材料的制备、加工、检测及外延材料性 能与结构化方面的研究。与中国有色总公司740厂、国内最大的微电子企业中国华晶电子 集团公司、北京有色金属研究总院、中科院半导体所、信息产业部446所、全国最大的 LCD生产厂一深圳天马微电子有限公司( MOTOROLA指定液晶显示屏生产厂)有着长期 的合作关系。这种合作关系既有利于本项目产品在高层次上取代进口,也便于打入国际市 5.产品及应用优势 (1)FA/o抛光液实现了小粒径、高速率、低损伤,有效地提高了抛光效率和质量,低 价格、浓缩度高便于运输和保存,并可扩大应用于不锈钢模具及电子玻璃、光学玻璃、电 视机玻壳、各种金属和宝石的抛光。 (2)FAo清洗剂金属离子含量低,有效解决了LCD清洗中的电极腐蚀问题,已确定为 MOTOROLA LCD供应商的指定产品。 (3)FA/o切削液、磨削液、倒角液等产品因具有很好的化学和渗透作用使硅单晶片破 损、损伤、碎片、破纹得到了有效控制,且降低了损伤层、畸变层的应力,并提高了效率 增加了刀具寿命,并可扩展到所有脆性材料和金属材料的切磨工艺。 (4)FAo活性剂又是多层铜布线和介质CMP抛光后表面清洗的必用材料,经台湾广润 公司使用表明,可以使表面01微米8英寸片的颗粒数由50个降到10个以下。在推广应 用过程中,使用单位采用了FAO电子材料活性剂,将硅单晶抛光片表面吸附物状态保持 易清洗物理吸附状态。抛光后正常保存时间由不足4小时(否则化学吸附难以清洗而报废) 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有,未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方
商业计划书-市场调查和分析 -16- 本文件所述及资料及文件皆为天津晶岭科技版权所有，未徵得公司同意不得将其中全部或部分翻印或转授与第三方 划》的要求，具有自主的知识产权。 2. 技术优势 本项目已有了成熟的研究基础及成果，在硅单晶衬底材料抛光、清洗与检测；分立器件与 大规模集成电路制备技术优化等多种材料的更新换代、技术创新方面取得多项重大发明成 果，先后完成了国家、天津市、河北省多项自然基金项目，获得了天津市重大攻关项目和 国家中小企业创新基金各 100 万元，并发表了 100 余篇相关论文，先后获国家发明三等奖、 四等奖共５次、五项获国家专利、九项获国内外发明展奖、十八项获省部级科技进步奖。 3. 装备优势 该系列产品的装备是由我方自行设计安装，具有工艺简单，效率高，投资低，适合该产品 的生产流程等特点。 4. 人员优势 刘玉岭教授，产品第一发明人，他多年来亲自到科研院所及企业用户的第一线，了解国内 外前沿技术信息、用户需求和市场，并有一套较实用的先进的实施技术，是具有创新能力 与实施能力突出的复合型国家级有突出贡献的专家。 主要技术人员长期从事集成电路、高频器件的基础材料的制备、加工、检测及外延材料性 能与结构化方面的研究。与中国有色总公司 740 厂、国内最大的微电子企业中国华晶电子 集团公司、北京有色金属研究总院、中科院半导体所、信息产业部 446 所、全国最大的 LCD 生产厂—深圳天马微电子有限公司（MOTOROLA 指定液晶显示屏生产厂）有着长期 的合作关系。这种合作关系既有利于本项目产品在高层次上取代进口，也便于打入国际市 场。 5. 产品及应用优势 （1）FA/O 抛光液实现了小粒径、高速率、低损伤，有效地提高了抛光效率和质量，低 价格、浓缩度高便于运输和保存，并可扩大应用于不锈钢模具及电子玻璃、光学玻璃、电 视机玻壳、各种金属和宝石的抛光。 （2）FA/O 清洗剂金属离子含量低，有效解决了 LCD 清洗中的电极腐蚀问题，已确定为 MOTOROLA LCD 供应商的指定产品。 （3）FA/O 切削液、磨削液、倒角液等产品因具有很好的化学和渗透作用使硅单晶片破 损、损伤、碎片、破纹得到了有效控制，且降低了损伤层、畸变层的应力，并提高了效率， 增加了刀具寿命，并可扩展到所有脆性材料和金属材料的切磨工艺。 （4）FA/O 活性剂又是多层铜布线和介质 CMP 抛光后表面清洗的必用材料，经台湾广润 公司使用表明，可以使表面 0.1 微米 8 英寸片的颗粒数由 50 个降到 10 个以下。在推广应 用过程中，使用单位采用了 FA/O 电子材料活性剂，将硅单晶抛光片表面吸附物状态保持 易清洗物理吸附状态。抛光后正常保存时间由不足 4 小时（否则化学吸附难以清洗而报废）