University of Electronic Science and Technology of China 956 六.光波导制作与测试技术 1
University of Electronic Science and Technology of China 1 六．光波导制作与测试技术
University of Electronic Science and Technology of China 956 口制作光波导的材料主要分为有机与无机 两大类，考虑到不同材料的特性不同， 因此相应的光波导的制作方法也不同。 2
University of Electronic Science and Technology of China 2 ❑ 制作光波导的材料主要分为有机与无机 两大类，考虑到不同材料的特性不同， 因此相应的光波导的制作方法也不同
University of Electronic Science and Technology of China 956 有机材料紫外曝光法制作光波导示意图 紫外光曝光 ↓↓ 【原理】某 些有机材料 在紫外光照 基底 基底 射后其折射 (1) (2) 率会变大 基底 基底 (4) (3) 3
University of Electronic Science and Technology of China 3 基底 基底 紫外光曝光 基底 基底 （1） （2） （4） （3） 有机材料紫外曝光法制作光波导示意图 【 原 理 】 某 些 有 机 材 料 在 紫 外 光 照 射 后 其 折 射 率会变大
University of Electronic Science and Technology of China 956 干法刻蚀或湿法腐蚀制作光波导示意图 光刻胶 紫外光曝光 显影并化学 掩膜阻挡层 WW 腐蚀后 芯层 芯层 芯层 下包层 基底 基底 基底 (1) (2) (3) 去除阻挡层并 干法刻蚀或湿法腐蚀 制作上包层 刻蚀或腐蚀后 芯 芯 芯层 基底 基底 基底 (6) (5) (4) 4
University of Electronic Science and Technology of China 4 干法刻蚀或湿法腐蚀制作光波导示意图 紫外光曝光 （1） （2） （3） 基底 芯层 光刻胶 掩膜阻挡层 基底 芯层 下包层 基底 芯层 干法刻蚀或湿法腐蚀 （4） 基底 芯层 显影并化学 腐蚀后 （5） 基底 芯 （6） 基底 芯 刻蚀或腐蚀后 去除阻挡层并 制作上包层
University of Electronic Science and Technology of China 956 扩散法制作光波导示意图 光刻胶 紫外光曝光 显影、化学腐蚀 待扩散金属 WW 并去除光刻胶后 波导材料 波导材料 波导材料 (1) (2) (3) 制作上包层后 高温炉中进行扩散 (可不制作上包层) 扩散完成后 波导材料 波导材料 波导材料 (6) (5) (4) 5
University of Electronic Science and Technology of China 5 紫外光曝光 （1） （2） （3） 光刻胶 待扩散金属 （4） 显影、化学腐蚀 并去除光刻胶后 （6） （5） 高温炉中进行扩散 波导材料 波导材料 波导材料 波导材料 波导材料 扩散完成后 波导材料 制作上包层后 (可不制作上包层) 扩散法制作光波导示意图