第六章配位滴定法(compleximetry)第一节概述配位滴定法是以形成配位化合物反应为基础的滴定分析法。配位反应具有极大的普遍性。多数金属离子在溶液中以配位离子形式而存在,但只有具备滴定分析条件的配位反应才能用于滴定分析。YOUR
第六章 配位滴定法 (compleximetry) 第一节 概述 配位滴定法是以形成配位化合物反应为基础 的滴定分析法。配位反应具有极大的普遍性。多 数金属离子在溶液中以配位离子形式而存在,但 只有具备滴定分析条件的配位反应才能用于滴定 分析
滴定分析对反应的要求确定的化学计量关系X反应必须定量完成(99.9%以X上)?反应必须迅速完成有合适的确定终点的方法XYOUR
滴定分析对反应的要求 ❖ 确定的化学计量关系 ❖ 反应必须定量完成(99.9%以 上) ❖ 反应必须迅速完成 ❖ 有合适的确定终点的方法
配位剂无机配位剂形成简单配位化合物,稳定常数小,各相邻化合物稳定性无显著性差别有机配位剂氨羧配位剂以氨基二乙酸为基体,含有氨氮和羧氧配位原子,应用最广是乙二氨四乙酸(ethylenediaminetetraaceticacidEDTA)YOUR
配位剂 有机配位剂 氨羧配位剂以氨基二乙酸为基体,含有氨 氮和羧氧配位原子,应用最广是乙二氨四乙 酸(ethylenediamine tetraacetic acid, EDTA) 无机配位剂 形成简单配位化合物,稳定常数小,各相 邻化合物稳定性无显著性差别
NH3与Cu2+的配位反应分以下四步进行:Cu2+ +k= 1.3x104NH3[Cu(NH3)]2+[Cu(NH3)2] 2+kz=3.2x103[Cu(NH3)] 2+ +NH3 ks=80x102_ [Cu(NH3)3]2+[Cu(NH3)2]2++NH3 -k4=1.3x102[Cu(NH3)4]2+[Cu(NH3)3] 2++NH3YOUR
NH3与Cu2+的配位反应分以下四步进行: Cu2+ + NH3 [Cu(NH3 )] 2+ k1= 1.3104 [Cu(NH3 )] 2+ +NH3 [Cu(NH3 )2 ] 2+ k2= 3.2103 [Cu(NH3 )2 ] 2++NH3 [Cu(NH3 )3 ] 2+ k3= 80102 [Cu(NH3 )3 ] 2++NH3 [Cu(NH3 )4 ] 2+ k4 =1.3102
EDTA的结构HOOCCH2CH2COOHN —CH2 —CH2 — NCH,COOHHOOCCH2YOUR
EDTA的结构 N —CH2 —CH2 — N HOOCCH2 HOOCCH2 CH2COOH CH2COOH