实际上体系中除了氧化还原反应外，还 有沉淀反应： Cu+F=Cu↓ =1.1x1012 4*Gw=98-icx+0.059l [Cu2+] [Cu*] =42am+0.059lg 2+ a Cu2+
实际上体系中除了氧化还原反应外，还 有沉淀反应： Cu+ + I- CuI↓ 12 ( ) 1.1 10− = CuI Ks p [ ] [ ] 0.059 lg 2 2 2 + + + + = + + + Cu Cu Cu Cu Cu Cu [ ] 0.059lg ( ) 2 2 2 − + + = + + + K I C s p CuI Cu Cu Cu Cu
4%a=8r+0.059lg ] :0c ≈l→Car≈[C+] 4纪10o=8-c+0.059 Ksp(Cul) =0.87V>9r 可见，由于沉淀反应的发生，电对的条件电位 变化很大，导致反应的方向逆转
+ + + + + = + − 2 2 2 ( ) ' 0.059lg s p CuI Cu Cu Cu Cu Cu K I 0.87 1 0.059lg 2 2 2 ( ) ' − + + + + = = + I I CuI s p Cu Cu Cu Cu V K 1 [ ] 2 2 2 + + C + Cu Cu Cu 可见，由于沉淀反应的发生，电对的条件电位 变化很大，导致反应的方向逆转
(3)生成配合物 若电对中的金属离子氧化态或还原态与溶液中的 配位剂发生配位反应，也会影响条件电位。 若氧化态配合物比还原态配合物的稳定性高，条 件电位降低；反之，条件电位将增高
⑶ 生成配合物 若电对中的金属离子氧化态或还原态与溶液中的 配位剂发生配位反应，也会影响条件电位。 若氧化态配合物比还原态配合物的稳定性高，条 件电位降低；反之，条件电位将增高
例：用间接碘量法测定Cu2+含量时，Fe3+的干扰能 否通过加入NaF消除。 Cu2++e Cu" cu*/cu =0.164/ L2+2e 之 21 r =0.535/ Fe3++e Fe2+ %/r2,=0.771V Fe3+也能与I反应而产生干扰。为此加入F-与Fe3+ 生成配合物，消除干扰
例：用间接碘量法测定Cu2+含量时，Fe3+的干扰能 否通过加入NaF消除。 Fe3+也能与 I - 反应而产生干扰。为此加入F -与 Fe3+ 生成配合物，消除干扰。 Fe Fe Fe3+ + e Fe 2+ 3+ 2+ = 0.771V V I I 0.535 2 − = I 2 + 2e 2IV Cu Cu 2+ + = 0.164 Cu2+ + e Cu+
0°=9e+0.0591g aFe(F) a=1#aF十a产f ade) ≈1 若F-]=1mol/L 09=0.771+0.059lg 1012.06 =0.0595V
0.0595 V 10 1 0.771 0.059lg 1 2.0 6 ' = = + 若[F-]=1mol / L