(三)、聚合物形成 1.熔体化学键分析。 最基本的离子是Si,O和碱或碱土 金属离子。 Si-O键键性的分析 R-0键的作用 2.Na2OSiO2熔体聚合物的形成过程 3.熔体中多种聚合物的数量与熔体 组成及温度的关系
1. 熔体化学键分析。 最基本的离子是Si,O和碱或碱土 金属离子。 2. Na2O—SiO2熔体聚合物的形成过程 3. 熔体中多种聚合物的数量与熔体 组成及温度的关系。 Si－O键键性的分析 R－O 键 的 作 用 （三）、 聚合物形成
1.熔体化学键分析 Si-O键键性的分析:离子键与共价键性 约2%混合 S(ls22p3p2)4个sp3杂化轨 道构成四面体。 O(12:2p4)—$p、sp2、sp3(从 键角分析应在sp和sp2之间)
Si－O键键性的分析：离子键与共价键性 (约52％)混合。 Si(1s22s22p63s23p2 )——4个sp3杂化轨 道构成四面体。 O(1s22s22p4 ) ——sp、 sp2 、 sp3（从 键角分析应在sp和 sp2之间) 1. 熔体化学键分析
Si-O形成σ键,同时O满的p轨道与S全 空着的d轨道形成d-D键,这时π键叠 加在σ键上,使Si一O键增强和距离缩短 键 σ键 键 结论)5Q键层有高键能方应性纸 配位等特点
Si－O键具有高键能、方向性和低 配位等特点。 结论 Si--O形成 σ 键，同时O满的p轨道与Si全 空着的d轨道形成dπ -pπ 键，这时π键叠 加在σ键上，使Si－O键增强和距离缩短。 Si O σ键 键 键
R-O键的作用: 熔体中R一0键的键性以离子键为主。 当R2O、RO引入硅酸盐熔体中时,Si4能 把R-O上的氧离子吸引到自己周围,使 Si-O键的键强、键长、键角发生改变, 最终使桥氧断我。 → efo-+2N+
熔体中R－O键的键性以离子键 为主。 当R2O、RO引入硅酸盐熔体中时，Si4+能 把R－O上的氧离子吸引到自己周围，使 Si－O键的键强、键长、键角发生改变， 最终使桥氧断裂。 R－O键的作用：
O/S比升高,SiO4之间连接方式可以从石 英的架状—层状—链状岛状(用 聚合物描述) 2.熔体形成过程以Na2OSiO2熔体为例。 (1)石英的分化 切硅氧聚合物来源于Na2O和SO2的相互作用 前·不考虑固相反应、低共熔、扩散等现象。只考虑 Na2O怎样“攻击”、“蚕食”石英颗粒从而j 提/生聚合物 聚合物的分布决定熔体结构
O/Si比升高，[SiO4 ]之间连接方式可以从石 英的架状——层状——链状——岛状（用 聚合物描述）。 2. 熔体形成过程 以Na2O—SiO2熔体为例。 (1) 石英的分化 •一切硅氧聚合物来源于Na2O和SiO2的相互作用 •不考虑固相反应、低共熔、扩散等现象。只考虑 Na2O怎样“攻击”、“蚕食”石英颗粒从而产 生聚合物。 •聚合物的分布决定熔体结构。 前 提